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Atmosfera de nitrogénio Forno de caixa de alta temperatura Forno de deposição de vapor químico

Name: Atmosfera de nitrogénio Forno de caixa de alta temperatura Forno de deposição de vapor químico
Brand: Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd
SKU: MBF100-10
Availability: InStock

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Caro Valorizado Parceiro, Agradecemos o vosso apoio e confiança no ano passado, é graças à vossa cooperação que conseguimos alcançar com êxito os nossos objectivos.Esperamos continuar a nossa estreita colaboração e criar ainda mais valor juntos. Com os melhores cumprimentos,

—— Academia Chinesa de Ciências

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Atmosfera de nitrogénio Forno de caixa de alta temperatura Forno de deposição de vapor químico

Nitrogen Atmosphere High Temperature Box Furnace Chemical Vapor Deposition CVD Furnace

Imagem Grande : Atmosfera de nitrogénio Forno de caixa de alta temperatura Forno de deposição de vapor químico

Detalhes do produto:

Place of Origin:	China
Marca:	Chitherm
Número do modelo:	MBF100-10

Condições de Pagamento e Envio:

Minimum Order Quantity:	1
Preço:	negotiable
Packaging Details:	Customized
Delivery Time:	Customized
Payment Terms:	Customized
Supply Ability:	Customized

Contato

Atmosfera de nitrogénio Forno de caixa de alta temperatura Forno de deposição de vapor químico

descrição

Variação de aplicações:	Indústria	Tipo:	Forno de retenção elétrico
Utilização:	Sinterização cerâmica	Combustível:	Eletrodomésticos
Atmosfera:	Nitrogénio	Dimensões eficazes da câmara:	640640250mm ((WHD)
Temperatura máxima:	1000°C	Elementos de aquecimento:	Fec aquecedor de fibra cerâmica
Pacote de transporte:	Embalagens de madeira	Especificações:	120012001500mm
Marca comercial:	Chitherm	Origem:	China
Código do SH:	8514101000	Habilidade da fonte:	50 conjuntos/ano
Personalização:	Disponível	Certificação:	ISO
Estilo de local:	Vertical
Destacar:	Forno de caixa de alta temperatura com atmosfera de nitrogénio , Forno de caixa de alta temperatura CVD , Forno de deposição de vapor químico CVD

Tratamento térmico a temperatura média em atmosfera de nitrogénio Mbf100-10 Forno CVD de deposição de vapor químico para uso industrial

1.Visão geral:
O Forno de Deposição Química de Vapores (CVD) MBF100-10 é adequado para tratamento térmico a temperatura média de produtos eletrónicos.É utilizado principalmente para processos de reação em fase gaseosa de materiais relacionados em atmosferas de nitrogênioPode também ser utilizado para processos de sinterização de materiais relacionados sob atmosferas protetoras.O forno está totalmente equipado e instalado com um sistema de monitorização informática em tempo real, tornando-o particularmente adequado para os requisitos de ensaio de processos de materiais em institutos de investigação.

2Especificações técnicas e configuração básica

Modelo de produto:MBF100-10
Temperatura nominal: 750°C
Temperatura máxima: 1000°C
Dimensões da zona de aquecimento: 770 × 770 × 300 mm (W × D × H)
Dimensões eficazes: 640 × 640 × 250 mm (W × D × H)
Elementos de aquecimento: FEC aquecedor de fibra cerâmica.
Sistema de escape: Portão de escape situado abaixo da câmara do forno.
Material de revestimento internoQuartzo fundido.
Método de arrefecimentoFrio natural com o forno.
Pontos de controlo de temperatura: 2 pontos de controlo de temperatura independentes.
Estabilidade de temperatura: ± 1°C, controlador de temperatura importado com função de ajuste automático PID.
Método de controlo: Ecrã táctil + controlo centralizado PLC.
Protecção de alarme: Alarmes auditivos e visuais de sobre-temperatura e ruptura do termocouple, com alarme de sobre-temperatura e função de proteção contra desligamento.
Aumento da temperatura da superfície:< 35oC.
Peso:Cerca de 500 kg.
Dimensões do forno:cerca de 1200 × 1200 × 1500 mm (W × H × D).

3Lista de entrega.
	Ponto	Notas	QTY
Composições Básicas	Forno		1 unidade
	Certificados de inspecção	Forno e principais componentes adquiridos	1 conjunto
	Documentação técnica	Especificações do forno, documentos técnicos dos principais componentes adquiridos, etc.	1 conjunto
Partes-chave	Controlador de fluxo de massa (MFC)	Yamatake ou HORIBA	4 Conjunto
	Ecrã táctil		1 PC
	Controlador de temperatura		1 conjunto
	Aquecedor FEC		1 conjunto
	Liner de quartzo		1 conjunto
Reservas	SSR		1 PC

4Requisitos de instalação
4.1 Condições ambientais: temperatura 0 - 40 °CoC, humidade ≤ 80% RH, sem gás corrosor, sem fortes
Distúrbio do fluxo de ar.
4.2Requisitos do solo: nível, sem vibrações óbvias, capacidade de suporte > 500 kg/m².
4.3Condições de potência: capacidade superior a22kVA, 3 fases 5 linhas, tensão 220/380V, frequência
50 Hz ((de acordo com a situação local).
4.4 Local de instalação: 1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (L × H × D), área de instalação superior a 2,5 m².

Medium-Temperature Heat Treatment Mbf100-10 Type Chemical Vapor Deposition (CVD) Furnace

etiqueta:

Pessoa de Contato: zang

Telefone: 18010872860

Fax: 86-0551-62576378

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