Forno de deposição de vapor químico CVD 1000 Ordm C Forno de aquecimento de fusão

O forno de deposição de vapor químico (CVD) MBF100-10 é projetado para tratamento térmico a temperatura média de produtos eletrônicos.acetileno, e atmosferas de hidrogénio, e podem também ser utilizadas para processos de sinterização sob atmosferas protetoras.

• Temperatura nominal:750°C
• Temperatura máxima:1000°C
• Dimensões da zona de aquecimento:770 × 770 × 300 mm (W × D × H)
• Dimensões eficazes:640 × 640 × 250 mm (W × D × H)
• Material da câmara exterior:SUS310S
• Material do revestimento interno:Quartzo fundido
• Tamanho do produto:Φ120
• Capacidade do equipamento:16 substratos por lote
• Potência máxima de aquecimento:16 kW
• Método de aquecimento:Abaixo + Quatro lados
• Pontos de controlo de temperatura:Abaixo + Lado
• Tipo de termocouple:Tipo K
• Taxa de aquecimento:≤ 8°C/min
• Elementos de aquecimento:Caldeiras de fibra cerâmica FEC
• Método de abertura da porta do forno:Design de abertura superior
• Estabilidade do controlo de temperatura:± 1°C
• Instrumento de controlo de temperatura:Controlador PID importado com função de ajuste automático
• Etapas do programa:20 passos
• Alarme e protecção:Alarmes de sobre-temperatura e de ruptura do termocouple com protecção contra desligamento
• Aumento da temperatura da superfície:< 35°C
• Peso:cerca de 500 kg
• Dimensões do forno:cerca de 1200 × 1200 × 1500 mm (W × H × D)

• Condições ambientais:Temperatura 0 - 40°C, umidade ≤ 80% RH, sem gás corrosor, sem fortes perturbações do fluxo de ar
• Requisitos de base:Nível, sem vibrações óbvias, capacidade de suporte > 500 kg/m2
• Condições de potência:Capacidade superior a 22 kVA, 3 fases 5 linhas, tensão 220/380V, frequência 50 Hz
• Local de instalação:1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (W × H × D), área de instalação superior a 2,5 m2